2026深圳國際光刻設備與光掩膜展會

時間：2026年4月9-11日   

地點：深圳會展中心（福田）       

█展會背景

微電子技術的發展一直是光刻設備和技術變革的動力，21世紀光刻技術將繼續居于諸多技術之首。光刻技術從誕生以來,在半導體加工制造行業中,作為圖形轉移技術而廣為應用。隨著芯片集成度的不斷提高、器件尺寸的不斷縮小以及器件功能的不斷提高,半導體加工技術中最為關鍵的光刻技術和光刻工藝設備,必將發生顯著的變化。

隨著集成電路產業的發展，高端芯片的集成度達到了數千乃至數億晶體管，推動芯片封裝技術向更高密度、更高性能發展，在傳統的接近/接觸式光刻機日趨無法滿足高性能、高密度、低成本的先進封裝工藝發展需求的情況下，先進的大視場、大焦深、高精度投影光刻機逐步成為先進封裝生產線的關鍵設備。由上海訓通展覽有限公司于眾多協會攜手在深圳會展中心舉辦“2026深圳國際光刻設備與光掩膜應用技術展覽會暨發展論壇”，歡迎廣大相關單位參展、參觀！  

█日程安排：

報道布展：2026年4月07-08日        開幕式：2026年4月09日09：30

展示交易：2026年4月09-11日        撤    展：2026年4月11日15：00

█頂級盛會（大會設贊助、協辦單位，詳情請致電組委會）

“搭建國際采購貿易平臺、促進企業交流合作、提高參展效果”

                                                           ————將是我們的目標！

◆規模空前——展出面積35,000平方米，國際標準展位共800個，超50000名專業觀眾

◆商機無限—采購商云集，光刻設備與掩膜技術行業巨大商機全面彰顯，接觸分享全球光刻設備與掩膜技術行業市場潛力

◆技術薈萃—國內外最新產品及成果薈萃，展會-論壇-經貿合作，是企業宣傳及市場開拓的高效平臺

◆項目匯聚—每年一度的行業例會，貿易對口洽談，國際貿易公司定點采購，是會展招商的重要平臺

█展品范圍：

◆曝光光源、光學系統、電系統、機械系統和控制系統等；

◆光刻機、光刻技術、步進投影光刻機、掃描投影光刻機、納米光刻技術、無掩模光刻技術、沉浸式光刻技術、準分子激光光刻技術、極紫外光刻機、電子束光刻、離子束光刻、X射線光刻、STM光刻、納米壓印光刻技術、微光刻技術、電子束曝光機、離子束曝光、3D 打印、刻蝕機、光刻機零部件、光刻前處理材料、曝光系統、光刻-掩模無機芯片與加工系統、光源與光刻膠、光刻膠原材料、光刻膠涂覆與處理設備等；

◆光掩膜、鉻版、干版，凸版、液體凸版、菲林、二元光掩膜及相位移光掩膜、光掩膜圖形描繪設備、光掩模測試等；

█觀眾范圍：

◆展會將邀請全國、省、市、各相關科研單位：電子、微電子、光電子、集成電路、半導體、微/納電機系統、芯片制造、生物器件、納米科技、平板顯示、IC制造、光伏、航空航天、國防軍工、IC、TP、LED、LCD、分立器件、太陽能、印刷、影像等制造業、大學、研究所、咨詢機構和公共機構的專家代表等人員到會參觀、洽談。

◆預計展覽會將吸引來自中國、日本、歐洲、北美、韓國、臺灣等國家和地區的決策者和專業人士。來自各國的參展商可以在展會中面對面會見極具潛力的應用客戶群和合作伙伴。參展商通過光刻設備與光掩膜技術展會，進一步發展中國和亞洲地區市場。

◆新技術發布會、新產品推廣會，專題研討會

主辦單位計劃在展覽期間開展一系列新產品新技術發布會、新產品推廣會、產品專題研討會，參展商可以獲得研討會優先贊助權，有關公司可以自主確定報告內容，負責提供相關文件，每家贊助公司可以自定邀請觀眾數量。

★ 每場收費30,000元RMB，時間為25分鐘（含場地各類配套設施、宣傳費用等）

█參展事項

1、參展單位詳細填寫好《參展合同表》并加蓋公章，郵寄或傳真至組委會；

2、組委會收到確認申請表，參展商于3個工作日內將參展費用50%或全款匯入組委會帳戶，并將匯款憑證傳真至組委會以便查對，否則不予保留預訂展位。

3、展位安排以“先報名、先交款、先安排”為原則，組委會有權對少量展位予以調整；

4、展品運輸、展會接待、住宿等事宜將在開展前一個月組委會另行發送《參展商手冊》。

2026深圳國際光刻設備與光掩膜應用技術展組委會

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